超大规模集成电路技术基础
李兴
电子工业出版社
出版时间：
1999-5-1
出版社：
电子工业出版社
作者：
李兴
页数：
255
Tag标签：
无
书籍目录
绪论
第一章 硅的晶体结构
第二章 光刻
第三章 掺杂
第四章 氧化及热处理
第五章 薄膜工艺基础与物理气相沉积
第六章 化学汽相沉积（VCD）
第七章 刻蚀
第八章 平坦化及多重内连线工艺
第九章 超大规模集成电路工艺汇总
图书封面
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